C CVD Flamme

Physikalische und chemische Gasphasenabscheidung auf Fäden

Die Metallisierung von Monofilamenten und Garnen wird durch die physikalische Gasphasenabscheidung mit kontinuierlicher Prozessführung untersucht. Dafür steht im TITV Greiz eine Niederdruck-Plasma-Anlage (PVD – Physical Vapor Deposition) zur Verfügung.

Neben der plasmachemischen Aktivierung der Oberflächen im Vakuum und der nasschemischen Bekeimung werden alternative Verfahren wie die flammpyrolytische Erzeugung (C-CVD – Combustion-Chemical Vapor Deposition) von oxydischen Nanofilmen wie SiOx unter atmosphärischen Bedingungen eingesetzt.


 

PVD-Anlage
PVD-Anlage